The first major components of ASML’s High-NA EUV system arrived at NY CREATES’ Albany NanoTech Complex for North America’s first accessible High-NA EUV Lithography Center.
Korean translation
ASML High-NA EUV 시스템의 첫 주요 부품이 북미 최초의 접근 가능한 High-NA EUV 리소그래피 센터 구축을 위해 NY CREATES 올버니 나노테크 단지에 도착함.